2023成都信息工程大學微電子技術基礎考研復試大綱已出!對成都信息工程大學電子科學與技術學碩、光電信息工程專碩感興趣的同學們是否及時掌握關鍵內容了呢?為了幫助大家更高效地展開備考,高頓小編整理了成都信息工程大學微電子技術基礎2023考研復試大綱的詳細內容,快來看看吧!
2023成都信息工程大學微電子技術基礎考研復試大綱
  一、科目的總體要求
  《微電子技術基礎》主要由半導體器件物理和集成電路工藝兩部分內容構成,本科目主要考察學生對《微電子技術基礎》基本概念、基本方法、基本理論的掌握,要求能解釋、分析并解決相關問題。
  二、考核內容與考核要求
  1、半導體能帶基礎及導電性
  (1)能帶的形成(了解);
 ?。?)半導體中的載流子(掌握);
 ?。?)三維無限晶體的能帶(理解);
 ?。?)平衡載流子濃度(掌握);
 ?。?)載流子的漂移、遷移率(理解)。
  2、PN結
 ?。?)平衡PN結能帶及參數(shù)(掌握)
 ?。?)正偏、反偏PN結(理解)
  3、雙極型晶體管
  (1)晶體管工作原理(理解);
 ?。?)雙極型晶體管靜態(tài)特性(理解);
  4、MOSFET器件
 ?。?)理想MOS結構(理解)
 ?。?)MOSFET基礎(理解)
  5、硅片工藝
 ?。?)多晶硅制備(了解);
 ?。?)單晶硅生長原理及直拉法,晶體摻雜:(掌握);
  (3)切片工藝(理解)。
  6、薄膜淀積
 ?。?)化學氣相淀積原理(理解);
 ?。?)化學氣相淀積工藝方法:常壓,低壓和等離子體增強化學氣相淀積(理解);
  (3)真空蒸鍍工藝原理及蒸鍍工藝(掌握);
  (4)濺射工藝原理及直流,射頻和磁控濺射工藝(掌握)。
  7、光刻與刻蝕
  (1)基本光刻工藝流程(掌握);
 ?。?)光刻膠與曝光技術(理解);
 ?。?)濕法刻蝕與干法刻蝕(理解);
  (4)刻蝕技術進展(了解);
  8、雜質摻雜
 ?。?)硅的熱氧化工藝與機理(掌握);
  (2)硅的Deal-Grove熱氧化模型(了解);
 ?。?)熱氧化生長速率與影響因素(理解);
 ?。?)擴散機制與擴散工藝條件及方法(理解);
  (5)離子注入原理與工藝流程(掌握);
  三、題型結構
  考試包含多種題型:名詞解釋、簡答題、計算題。
  四、參考書目
  1、《半導體器件物理與工藝》第3版,施敏主編,蘇州大學出版社,2014年。
  五、其他要求
  具體考試時間以《準考證》為準。
  考生可攜帶不具編程、可存儲功能的普通計算器。
  本文內容整理于成都信息工程大學研究生處。
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