2024西北工業(yè)大學(xué)微電子學(xué)院080900電子科學(xué)與技術(shù)、140100集成電路科學(xué)與工程、085401新一代電子信息技術(shù)(含量子技術(shù)等)、085403集成電路工程、085410人工智能考研業(yè)務(wù)課二考試科目進(jìn)行了調(diào)整,調(diào)整后初試科目為882半導(dǎo)體物理與器件,為此,高頓小編特意整理了其考試大綱的詳細(xì)內(nèi)容,快來(lái)看看吧!
24西北工業(yè)大學(xué)半導(dǎo)體物理與器件考研大綱
  一、總體要求
  “半導(dǎo)體物理與器件”要求學(xué)生熟練掌握半導(dǎo)體物理相關(guān)的基本理論知識(shí),主要掌握的內(nèi)容包括半導(dǎo)體的晶格結(jié)構(gòu)、半導(dǎo)體中的電子狀態(tài)、雜質(zhì)和缺陷能級(jí)、載流子的統(tǒng)計(jì)分布,非平衡載流子及載流子的運(yùn)動(dòng)規(guī)律。通過(guò)掌握的半導(dǎo)體物理相關(guān)理論知識(shí)能夠?qū)ΤR?jiàn)的半導(dǎo)體器件分析基本工作機(jī)理和深層次的物理效應(yīng),并能夠計(jì)算基本的電學(xué)特性。
  二、考試內(nèi)容
 ?。ㄒ唬┌雽?dǎo)體中的電子狀態(tài)
  主要內(nèi)容:需要掌握半導(dǎo)體的分類及其特點(diǎn),常見(jiàn)半導(dǎo)體的晶格結(jié)構(gòu)、能帶特點(diǎn)以及半導(dǎo)體中的導(dǎo)電機(jī)構(gòu)。
  具體考試內(nèi)容:
  1、半導(dǎo)體分類及半導(dǎo)體性質(zhì)
  2、半導(dǎo)體的晶格結(jié)構(gòu)和結(jié)合性質(zhì)
  3、半導(dǎo)體中的電子狀態(tài)和能帶
  4、半導(dǎo)體中電子的運(yùn)動(dòng),有效質(zhì)量
  5、本征半導(dǎo)體的導(dǎo)電機(jī)構(gòu),空穴
 ?。ǘ┌雽?dǎo)體中雜質(zhì)和缺陷能級(jí)
  主要內(nèi)容:需要掌握雜質(zhì)半導(dǎo)體的概念,雜質(zhì)和缺陷在半導(dǎo)體中引入的能級(jí)。
  具體考試內(nèi)容:
  1、硅、鍺晶體中的雜質(zhì)能級(jí)
  2、Ⅲ-Ⅴ族化合物中的雜質(zhì)能級(jí)
  3、缺陷、位錯(cuò)能級(jí)
  (三)半導(dǎo)體中載流子的統(tǒng)計(jì)分布
  主要內(nèi)容:需要掌握半導(dǎo)體的狀態(tài)密度、載流子統(tǒng)計(jì)分布,本征半導(dǎo)體和雜質(zhì)半導(dǎo)體載流子濃度,簡(jiǎn)并半導(dǎo)體。
  具體考試內(nèi)容:
  1、狀態(tài)密度
  2、費(fèi)米能級(jí)和載流子的統(tǒng)計(jì)分布
  3、本征半導(dǎo)體和雜質(zhì)半導(dǎo)體的載流子濃度
  4、一般情況下的載流子統(tǒng)計(jì)分布
  5、簡(jiǎn)并半導(dǎo)體
 ?。ㄋ模┌雽?dǎo)體的導(dǎo)電性
  主要內(nèi)容:需要掌握半導(dǎo)體的漂移運(yùn)動(dòng),載流子的散射機(jī)制,遷移率、電阻率與雜質(zhì)濃度和溫度的關(guān)系,強(qiáng)場(chǎng)效應(yīng)與熱載流子。
  具體考試內(nèi)容:
  1、載流子的漂移運(yùn)動(dòng)和遷移率
  2、載流子的散射
  3、遷移率與雜質(zhì)濃度和溫度的關(guān)系
  4、電阻率及其與雜質(zhì)濃度和溫度的關(guān)系
  5、強(qiáng)場(chǎng)下的效應(yīng)、熱載流子
 ?。ㄎ澹┓瞧胶廨d流子
  主要內(nèi)容:需要掌握非平衡載流子的產(chǎn)生、復(fù)合、壽命,準(zhǔn)費(fèi)米能級(jí),復(fù)合理論及陷阱效應(yīng),非平衡載流子的擴(kuò)散與漂移,愛(ài)因斯坦關(guān)系式及連續(xù)性方程。
  具體考試內(nèi)容:
  1、非平衡載流子的注入與復(fù)合
  2、非平衡載流子的壽命
  3、準(zhǔn)費(fèi)米能級(jí)
  4、復(fù)合理論
  5、載流子的擴(kuò)散
  6、載流子的漂移
  (六)PN結(jié)
  主要內(nèi)容:需要掌握PN結(jié)的工作原理、能帶結(jié)構(gòu)、電流-電壓特性、電容特性、頻率特性、開(kāi)關(guān)特性及PN結(jié)擊穿等。
  具體考試內(nèi)容:
  1、熱平衡PN結(jié)
  2、加偏壓的PN結(jié)
  3、理想PN結(jié)的直流電流-電壓特性
  4、空間電荷區(qū)的復(fù)合電流和產(chǎn)生電流
  5、隧道電流
  6、耗盡層電容
  (七)金屬-半導(dǎo)體結(jié)
  主要內(nèi)容:需要掌握金半接觸形成的肖特基勢(shì)壘分析及肖特基勢(shì)壘高度的計(jì)算,影響肖特基勢(shì)壘高度的因素,肖特基二極管和PN結(jié)二極管對(duì)比,歐姆接觸。
  具體考試內(nèi)容:
  1、肖特基勢(shì)壘
  2、肖特基勢(shì)壘二極管的結(jié)構(gòu)、電流-電壓特性
  3、肖特基勢(shì)壘二極管和PN結(jié)二極管的比較
  4、歐姆接觸
 ?。ò耍╇p極結(jié)型晶體管
  主要內(nèi)容:需要掌握雙極結(jié)型晶體管的結(jié)構(gòu)、制造、基本工作原理、電流傳輸,常見(jiàn)的雙極結(jié)型晶體管中的二級(jí)物理效應(yīng)。
  具體考試內(nèi)容:
  1、雙極結(jié)型晶體管的結(jié)構(gòu)和制造工藝
  2、雙極結(jié)型晶體管的基本工作原理
  3、理想雙極結(jié)型晶體管中的電流傳輸
  4、基區(qū)擴(kuò)展電阻和電流集聚效應(yīng)
  5、基區(qū)寬度調(diào)變效應(yīng)
 ?。ň牛┙饘?氧化物-半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管(MOSFET)
  主要內(nèi)容:需要掌握NOSFET的結(jié)構(gòu)、制造、基本工作原理、分類、電流-電壓特性、電容-電壓特性以及常見(jiàn)的MOSFET二級(jí)物理效應(yīng)。
  具體考試內(nèi)容:
  1、理想MOS結(jié)構(gòu)的表面空間電荷
  2、理想MOS電容器
  3、溝道電導(dǎo)與閾值電壓
  4、實(shí)際MOS的電容-電壓特性和閾值電壓
  5、MOS場(chǎng)效應(yīng)晶體管
  6、MOSFET的等效電路和頻率響應(yīng)
  7、MOSFET的類型
  8、MOSFET的亞閾值區(qū)
  9、影響MOSFET閾值電壓的因素
  三、考試形式
  1、考試時(shí)間:180分鐘
  2、試卷分值:150分
  3、考試方式:閉卷考試
  四、參考書目
  考試內(nèi)容中第一至五部分參考書目:劉恩科、朱秉升、羅晉生,半導(dǎo)體物理學(xué)(第7版),電子工業(yè)出版社,第一至五章
  考試內(nèi)容中第六至九部分參考書目:孟慶巨、劉海波、孟慶輝,半導(dǎo)體器件物理(第二版),科學(xué)出版社,第二、三、四、六章
  特別說(shuō)明:“半導(dǎo)體物理與器件”是研究生入學(xué)的總結(jié)性考試,該考試具有一定的綜合性,考試水平應(yīng)達(dá)到或超過(guò)本科課程相應(yīng)的考試水平。
  本文內(nèi)容整理于西北工業(yè)大學(xué)研究生招生信息網(wǎng)。
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