華南師范大學(xué)華南先進(jìn)光電子研究院2023考研復(fù)試大綱已經(jīng)發(fā)布，包含了考試范圍、考試要求、考試形式、試卷結(jié)構(gòu)等重要信息，對(duì)考生具有重大的參考意義。高頓考研為大家整理了華南師范大學(xué)華南先進(jìn)光電子研究院2023考研復(fù)試大綱的詳細(xì)內(nèi)容，供大家參考！
華南師范大學(xué)華南先進(jìn)光電子研究院2023考研復(fù)試大綱
院所代碼 院系所名稱 科目名稱 考試大綱
025 華南先進(jìn)光電子研究院 02508固體物理 專業(yè)：物理學(xué)，復(fù)試筆試科目名稱：固體物理
考試目的：
在考查物理固態(tài)物理基本知識(shí)、基本理論的基礎(chǔ)上，注重考查考生靈活運(yùn)用這些基礎(chǔ)知識(shí)觀察和解決實(shí)際問(wèn)題的能力。
考試時(shí)間：3小時(shí)。
考試形式：閉卷
試卷結(jié)構(gòu)：選擇題，填空題，簡(jiǎn)答題，論述題，計(jì)算題，總分100分。
考試內(nèi)容：固體物理。
一晶體結(jié)構(gòu)：了解晶體的稱性、點(diǎn)群、晶格荷晶胞、波矢量荷倒格矢空間等基本概念，晶面間距檢測(cè)等相關(guān)知識(shí)。
二、固體的結(jié)合：了解固體結(jié)合的不同相互作用，以及元素和化合物晶體結(jié)合的規(guī)律性
三、晶格振動(dòng)與晶體的熱學(xué)性質(zhì)：了解單原子鏈震動(dòng)規(guī)律，以及晶格震動(dòng)對(duì)光學(xué)性能，以及材料熱學(xué)性能影響。
四、能帶理論：了解布洛赫定理，能帶理論的兩大近似方法（近自由近似荷緊束縛近似）的原理，可以作簡(jiǎn)單計(jì)算；了解能隙、費(fèi)米面、能態(tài)密度、布里淵區(qū)、表面電子態(tài)等概念。
五、晶體中電子在電場(chǎng)和磁場(chǎng)中的運(yùn)動(dòng)：了解導(dǎo)體、絕緣體和半導(dǎo)體的能帶論，在恒定磁場(chǎng)中電子的運(yùn)動(dòng)，功函數(shù)荷接觸電勢(shì)等知識(shí)
六、半導(dǎo)體電子論：了解半導(dǎo)體的基本能帶結(jié)構(gòu)，雜質(zhì)能級(jí)，半導(dǎo)體中電子的費(fèi)米統(tǒng)計(jì)分布，電導(dǎo)荷霍爾效應(yīng)，pn結(jié)，屬－絕緣體－半導(dǎo)體系統(tǒng)和MOS反型層等概念。
七、相圖：了解固體相以及兩相平衡并存的準(zhǔn)靜態(tài)相變，以及相圖等知識(shí)。
025 華南先進(jìn)光電子研究院 02506光電綜合 專業(yè)：物理學(xué)，復(fù)試筆試科目名稱：光電綜合
考試目的：考察考生對(duì)工程光學(xué)，物理光學(xué)，光通訊及電子技術(shù)等四個(gè)相關(guān)方向基礎(chǔ)知識(shí)的理解和應(yīng)用，考察考生的思維能力以及分析解決專業(yè)問(wèn)題的能力。
筆試考試時(shí)間：3小時(shí)。
考試形式：閉卷
試題結(jié)構(gòu)：填空、判斷、簡(jiǎn)答、計(jì)算、設(shè)計(jì)、綜述等。
試卷內(nèi)容：科目包括工程光學(xué)、物理光學(xué)、光通訊及電子技術(shù)四部分內(nèi)容。四部分內(nèi)容各包含10個(gè)試題，共40個(gè)試題，每題10分。參加復(fù)試的考生只需選做其中的10題，多做者按得分最高的10題計(jì)分，總分100分。

（一）幾何光學(xué)部分復(fù)試大綱：
幾何光學(xué)基本概念和基本定律；光的反射和折射；共軸球面系統(tǒng)基礎(chǔ)知識(shí)；了解基本人眼及目視光學(xué)系統(tǒng)的基本原理和結(jié)構(gòu)；平面鏡棱鏡等基本光學(xué)元件基本光學(xué)的基礎(chǔ)知識(shí)。
掌握理想光學(xué)系統(tǒng)及其成像關(guān)系；一些常見(jiàn)基本光路及光學(xué)系統(tǒng)的基礎(chǔ)知識(shí)，光纖光學(xué)基本知識(shí)；了解光纖的傳輸原理；了解光纖的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)。
（二）物理光學(xué)部分復(fù)試大綱：
光的電磁波屬性；光的傳播基礎(chǔ)知識(shí)；光的干涉原理；干涉儀、多光束干涉與光學(xué)薄膜；光的衍射原理；光柵衍射、衍射與成像系統(tǒng)；了解信息光學(xué)、傅里葉光學(xué)等概念，全息光學(xué)成像等技術(shù)原理。
光的吸收、色散和散射的基礎(chǔ)知識(shí)；光的偏振特性；晶體光學(xué)基礎(chǔ)；傅里葉光學(xué)基礎(chǔ)；全息光學(xué)成像概念；了解激光產(chǎn)生的條件；了解激光器的工作原理；了解激光技術(shù)等。
（三）光通訊部分復(fù)試內(nèi)容：
光纖的射線及波動(dòng)理論導(dǎo)光原理，它的傳輸特性（色散、衰減、雙折射等）及分類；光纖的非線性效應(yīng)及其原理；摻鉺光纖放大器原理及特性，光纖拉曼放大器原理和特點(diǎn)。
（四）電子技術(shù)部分復(fù)試內(nèi)容：
掌握運(yùn)算放大器的分析方法，使用運(yùn)算放大器搭建負(fù)反饋放大、加法器、比較器電路。掌握二極管三極管的基本知識(shí)，包括PN結(jié)的原理，單向?qū)ㄐ?，三極管放大原理和基本電路。掌握基本邏輯門(mén)電路，和邏輯代數(shù)計(jì)算公式，運(yùn)算規(guī)律。
025 華南先進(jìn)光電子研究院 02512綜合化學(xué)一 專業(yè)：物理化學(xué)，復(fù)試筆試科目名稱：綜合化學(xué)一
考試目的：在考查物理化學(xué)基本知識(shí)、基本理論的基礎(chǔ)上，注重考查考生靈活運(yùn)用這些基礎(chǔ)知識(shí)觀察和解決實(shí)際問(wèn)題的能力。
考試時(shí)間：3小時(shí)。考試形式：閉卷。試卷結(jié)構(gòu)：選擇題，填空題，簡(jiǎn)答題，論述題，計(jì)算題，總分100分。
考試內(nèi)容：物理化學(xué)、化學(xué)綜合知識(shí)。
一、化學(xué)熱力學(xué)
1、了解熱力學(xué)基本術(shù)語(yǔ)：平衡狀態(tài)，狀態(tài)函數(shù)，可逆過(guò)程，熱力學(xué)標(biāo)準(zhǔn)態(tài)；理解熱力學(xué)能、焓、熵、Helmholtz 函數(shù)和 Gibbs 函數(shù)等熱力學(xué)函數(shù)及熱力學(xué)標(biāo)準(zhǔn)平衡常數(shù)的定義。
2、掌握在物質(zhì)的 p，V，T 變化、相變化和化學(xué)變化過(guò)程中計(jì)算熱、功和各種過(guò)程狀態(tài)函數(shù)變化值的原理和方法。
3、在熱力學(xué)一般關(guān)系式應(yīng)用于特定系統(tǒng)的時(shí)候，會(huì)應(yīng)用狀態(tài)方程（主要是理想氣體狀態(tài)方程，其次是 van der Waal 方程）和物性數(shù)據(jù)（熱容、相變熱、蒸汽壓等），并會(huì)靈活運(yùn)用熱力學(xué)三大定律解決各類物理化學(xué)變化過(guò)程的能量轉(zhuǎn)換、變化方向和限度問(wèn)題。
4、掌握熱力學(xué)在溶液化學(xué)、相平衡體系、化學(xué)反應(yīng)體系、電化學(xué)、界面化學(xué)方面的應(yīng)用。
二、電化學(xué)基礎(chǔ)
1、掌握電化學(xué)涉及的一些基本規(guī)律和應(yīng)用，包括了解電解質(zhì)溶液的導(dǎo)電機(jī)理。
2、掌握電解質(zhì)溶液活度、離子平均活度及離子平均活度系數(shù)的概念。
3、了解可逆電池電動(dòng)勢(shì)與熱力學(xué)函數(shù)的關(guān)系及Nernst 方程。
4、理解產(chǎn)生電極極化的原因和超電勢(shì)的概念。
5、了解化學(xué)腐蝕和電化學(xué)腐蝕的基本原理和防止腐蝕的方法。
三、表面物理化學(xué)
1、掌握界面化學(xué)和膠體化學(xué)相關(guān)的物理化學(xué)知識(shí)，了解潤(rùn)濕、接觸角、鋪展毛細(xì)現(xiàn)象等基本術(shù)語(yǔ)。
2、了解溶液界面的吸附及表面活性物質(zhì)的作用及其應(yīng)用，并能運(yùn)用其分析和解決實(shí)際生活生產(chǎn)中出現(xiàn)的問(wèn)題。
四、化學(xué)動(dòng)力學(xué)基礎(chǔ)
1、了解化學(xué)反應(yīng)速率、速率常數(shù)、基元反應(yīng)、反應(yīng)分子數(shù)及反應(yīng)級(jí)數(shù)等概念。
2、掌握簡(jiǎn)單級(jí)數(shù)反應(yīng)的速率方程及特征，熟悉各種因素對(duì)反應(yīng)速率的影響；掌握由反應(yīng)機(jī)理建立速率方程的近似方法（穩(wěn)定態(tài)近似法、平衡態(tài)近似法）。
3、了解碰撞理論、過(guò)渡狀態(tài)理論的基本思想、基本公式及有關(guān)概念。
4、掌握溶液化學(xué)動(dòng)力學(xué)、催化學(xué)、光化學(xué)的基礎(chǔ)知識(shí)；學(xué)會(huì)用動(dòng)力學(xué)方法解決實(shí)際生產(chǎn)中的一些具體問(wèn)題。
五、膠體化學(xué)
1、了解膠體的制備方法；掌握膠體的若干重要性質(zhì)（動(dòng)力性質(zhì)、電學(xué)性質(zhì)、光學(xué)性質(zhì)）。
2、理解膠團(tuán)的結(jié)構(gòu)和擴(kuò)散雙電層概念。
3、熟練掌握溶膠的穩(wěn)定性和聚沉作用，了解影響聚沉作用的重要因素。
4、了解乳狀液和凝膠的概念。
六、化學(xué)綜合知識(shí)
包括分析化學(xué)、有機(jī)化學(xué)、無(wú)機(jī)化學(xué)、實(shí)驗(yàn)基本知識(shí)。
025 華南先進(jìn)光電子研究院 02513綜合化學(xué)二 專業(yè)：高分子化學(xué)與物理，復(fù)試科目名稱：綜合化學(xué)二
考試目的：考察考生對(duì)高分子物理、化學(xué)以及表征的基礎(chǔ)知識(shí)的理解和應(yīng)用；注重考查考生抽象思維能力、邏輯推理能力，靈活運(yùn)用這些基礎(chǔ)知識(shí)觀察和解決實(shí)際問(wèn)題的能力。
考試時(shí)間：3小時(shí)。
考試形式：閉卷。
試卷結(jié)構(gòu)：選擇題，填空題，簡(jiǎn)答題，論述題，計(jì)算題，總分100分。
考試內(nèi)容：高分子化學(xué)、高分子物理、化學(xué)綜合知識(shí)。
一、高分子化學(xué)
1、高分子化學(xué)的基本概念；高分子分類及命名。
2、高分子單體分子的設(shè)計(jì)與合成。
2、高分子聚合基本概念、原理、分類、特征、應(yīng)用、聚合反應(yīng)熱力學(xué)與動(dòng)力學(xué)。各種連鎖聚合反應(yīng)（自由基聚合、陽(yáng)離子聚合、陰離子聚合、配位聚合、開(kāi)環(huán)聚合）機(jī)理的特點(diǎn)、基元反應(yīng)；單體與引發(fā)劑的匹配。各種逐步聚合反應(yīng)機(jī)理的特點(diǎn)、聚合度的控制等。
3、高分子合成實(shí)驗(yàn)。
4、結(jié)構(gòu)表征，用于研究分析聚合物材料所使用的各種光譜、色譜、質(zhì)譜、能譜及顯微鏡等實(shí)驗(yàn)技術(shù)；測(cè)定聚合物基本參數(shù)如聚合物分子量及其分布、結(jié)晶度、各向異性等方面的方法。
5、高分子材料應(yīng)用。
二、高分子物理
1、高分子結(jié)構(gòu)，包括構(gòu)型、構(gòu)象、柔性、熵、相態(tài)和相分離、高分子凝聚態(tài)結(jié)構(gòu)（晶態(tài)、非晶態(tài)、液晶態(tài)）、溶解與溶脹等。
2、高分子運(yùn)動(dòng)學(xué)，包括高分子鏈運(yùn)動(dòng)的松弛特性，力學(xué)狀態(tài)，玻璃化轉(zhuǎn)變，蠕變和應(yīng)力松弛，應(yīng)力—應(yīng)變行為等。
3、物理性質(zhì)表征，如熔點(diǎn)、玻理化轉(zhuǎn)變、力學(xué)松弛等。性能測(cè)試，如力學(xué)性能、介電性能、光學(xué)性能、熱性能等。
三、化學(xué)綜合知識(shí)
包括分析化學(xué)、有機(jī)化學(xué)、物理化學(xué)、實(shí)驗(yàn)基本知識(shí)。
025 華南先進(jìn)光電子研究院 02506光電綜合 專業(yè)：光學(xué)工程，考試科目：光電綜合
考試目的：考察考生對(duì)工程光學(xué)，物理光學(xué)，光通訊及電子技術(shù)等四個(gè)相關(guān)方向基礎(chǔ)知識(shí)的理解和應(yīng)用，考察考生的思維能力以及分析解決專業(yè)問(wèn)題的能力。
筆試考試時(shí)間：3小時(shí)。
考試形式：閉卷
試題結(jié)構(gòu)：填空、判斷、簡(jiǎn)答、計(jì)算、設(shè)計(jì)、綜述等。
試卷內(nèi)容：科目包括工程光學(xué)、物理光學(xué)、光通訊及電子技術(shù)四部分內(nèi)容。四部分內(nèi)容各包含10個(gè)試題，共40個(gè)試題，每題10分。參加復(fù)試的考生只需選做其中的10題，多做者按得分最高的10題計(jì)分，總分100分。
（一） 工程光學(xué)部分復(fù)試內(nèi)容：
幾何光學(xué)基本原理，共軸球面系統(tǒng)基礎(chǔ)知識(shí)，人眼及目視光學(xué)系統(tǒng)基礎(chǔ)知識(shí)，平面鏡棱鏡基礎(chǔ)知識(shí)，輻射度學(xué)、光度學(xué)、色度學(xué)基礎(chǔ)知識(shí)，光學(xué)系統(tǒng)成像質(zhì)量評(píng)價(jià)，一些常見(jiàn)基本光路及光學(xué)系統(tǒng)的基礎(chǔ)知識(shí)，光纖光學(xué)基本知識(shí)。
（二） 物理光學(xué)復(fù)試內(nèi)容：
光的電磁波屬性，光的傳播基礎(chǔ)知識(shí)，光的反射和折射，光的偏振與晶體光學(xué)基礎(chǔ)，光的干涉、干涉儀、多光束干涉與光學(xué)薄膜，光的衍射、光柵衍射、衍射與成像系統(tǒng)，光的吸收、色散和散射，傅里葉光學(xué)基礎(chǔ)，光的量子性基礎(chǔ)知識(shí)，激光及激光器的基礎(chǔ)知識(shí)。
（三） 光通訊部分復(fù)試內(nèi)容：
光纖的射線及波動(dòng)理論導(dǎo)光原理，它的傳輸特性（色散、衰減、雙折射等）及分類；光纖的非線性效應(yīng)及其原理；摻鉺光纖放大器原理及特性，光纖拉曼放大器原理和特點(diǎn)；光纖通信中的復(fù)用及調(diào)制編碼技術(shù)。
（四） 電子技術(shù)部分復(fù)試內(nèi)容：
掌握運(yùn)算放大器，包括運(yùn)算放大器的分析方法，使用運(yùn)算放大器搭建負(fù)反饋放大、加法器、比較器電路。
掌握二極管三極管的基本知識(shí)，包括PN結(jié)的原理，單向?qū)ㄐ?，三極管放大原理和基本電路。
掌握基本邏輯門(mén)電路，和邏輯代數(shù)計(jì)算公式，運(yùn)算規(guī)律，能進(jìn)行邏輯代數(shù)的基本運(yùn)算。
025 華南先進(jìn)光電子研究院 02507材料綜合 專業(yè)：材料物理與化學(xué)，考試目的：考察考生科學(xué)思維能力；考察考生對(duì)材料科學(xué)與工程學(xué)科基礎(chǔ)知識(shí)的理解與掌握、材料結(jié)構(gòu)與性能之間的構(gòu)效關(guān)系、材料與器件常用測(cè)試方法原理、及其材料加工等知識(shí)?？荚噧?nèi)容包括《材料物理與化學(xué)》、《材料現(xiàn)代研究方法》、以及《材料科學(xué)基礎(chǔ)》。
考試時(shí)間：3小時(shí)
考試形式：閉卷
試卷結(jié)構(gòu)：選擇題（共30分）、填空題（共10分）、簡(jiǎn)答題（20分）、計(jì)算題（共40分），總分100分。
1、《材料物理化學(xué)》要求考生掌握化學(xué)熱力學(xué)及化學(xué)動(dòng)力學(xué)的基本知識(shí)；培養(yǎng)學(xué)生對(duì)化學(xué)變化和相變化的平衡規(guī)律及變化速率規(guī)律等物理化學(xué)問(wèn)題，具有明確的基本概念，熟練的計(jì)算能力同時(shí)具有一般科學(xué)方法的訓(xùn)練和邏輯思維能力，體會(huì)并掌握怎樣由實(shí)驗(yàn)結(jié)果出發(fā)進(jìn)行歸納和演繹。
考試內(nèi)容包括：熱力學(xué)基礎(chǔ)、多組分系統(tǒng)熱力學(xué)、相平衡、化學(xué)平衡、界面現(xiàn)象、電化學(xué)、以及化學(xué)動(dòng)力學(xué)六個(gè)部分。
2、《材料現(xiàn)代研究方法》是材料、物理、化學(xué)、化工及環(huán)境等專業(yè)的專業(yè)基礎(chǔ)課，是作為研究生必須掌握的一門(mén)專業(yè)知識(shí)。要求考生掌握在材料測(cè)試方法中應(yīng)用最廣和最基礎(chǔ)的X射線衍射和掃描與透射電子顯微鏡等分析技術(shù)。
考試內(nèi)容包括：掌握材料Ｘ射線衍射分析、電子顯微分析、差熱分析技術(shù)(DTA)、差示掃描量熱技術(shù)(DSC)、熱重分析技術(shù)(TG)等技術(shù)的相關(guān)原理與知識(shí)。
3、《材料科學(xué)基礎(chǔ)》是材料科學(xué)與工程的重要基礎(chǔ)理論課，是理解并學(xué)習(xí)各種材料其結(jié)構(gòu)、加工工藝與性能之間聯(lián)系的基礎(chǔ)。
考試內(nèi)容主要包括：各類共性基礎(chǔ)知識(shí)部分（原子結(jié)構(gòu)與結(jié)合鍵、晶體結(jié)構(gòu)、晶體缺陷、相圖與相平衡、材料的凝固等）；金屬材料基礎(chǔ)知識(shí)部分（金屬晶體中錯(cuò)位、表面與界面、塑性形變與再結(jié)晶、金屬晶體中擴(kuò)散、固態(tài)相變等）和無(wú)機(jī)材料基礎(chǔ)知識(shí)部分（無(wú)機(jī)材料化學(xué)鍵結(jié)構(gòu)與晶體結(jié)構(gòu)、無(wú)機(jī)材料的缺陷、無(wú)機(jī)材料的相圖與相變過(guò)程、無(wú)機(jī)材料的基本制造和加工原理、無(wú)機(jī)材料的機(jī)械性能、無(wú)機(jī)材料的光學(xué)和電學(xué)性能）。
025 華南先進(jìn)光電子研究院 02509半導(dǎo)體物理 專業(yè)：微電子學(xué)與固體電子學(xué)，考試目的：考察考生對(duì)半導(dǎo)體物理的基礎(chǔ)知識(shí)的理解和應(yīng)用；考察考生的思維能力、數(shù)學(xué)運(yùn)算能力、分析解決具體半導(dǎo)體物理問(wèn)題的能力。
考試時(shí)間：3小時(shí)。
考試形式：閉卷
試卷結(jié)構(gòu)：共16道解答題，每題10分，考生可任選10道作答，總分100分。

考試內(nèi)容：
1 半導(dǎo)體中的電子狀態(tài)
2 半導(dǎo)體中雜質(zhì)和缺陷能級(jí)
3 半導(dǎo)體中載流子的統(tǒng)計(jì)分布
4 半導(dǎo)體的導(dǎo)電性
5 非平衡載流子
6 pn結(jié)
7 金屬和半導(dǎo)體的接觸
8 半導(dǎo)體表面與MIS結(jié)構(gòu)
文章來(lái)源：華南師范大學(xué)研究生院官網(wǎng)